第924章 光刻机大突破 (第2/6页)

的时候,人类画的线是用手画的,细度是毫米级别的，所以一个单晶硅芯片上面只能画几个半导体。

    后来变成了经过了精度加工的金属模具来压,但这样线的细度也不过是0.1毫米级别的,顶多只能够画几百上千个半导体而已。

    直到有人发现了，可以利用光线在单晶硅上面刻画，于是第1台能够光刻机诞生了，但只能够刻画0.01毫米，也就是10微米左右的线条，在一片单晶硅上面也就是上万个半导体而已。

    不过在人类不断的突破下，不断的更换光源和镜头，将光线也变得越来越细，最后也就成了现在的70nm级别制程的光刻机了。能够在一片单晶硅上面刻画上千万的半导体。

    但这也顶天了，到90年代中期，人类就发现不管是镜头还是光源，人类都已经突破到极致了。除非能够弄到比激光和紫外线还要细的光源，或者干脆换掉光，用另外一种方式来刻画，否则这就是一个无法突破的死xue。

    但10多年的时间，没有任何一家企业能够做到这一点，而光刻机的发展限制，也就导致了芯片制作精度被限制住了,所以这10多年的时间里面，计算机芯片本身的硬件技术是没有什么发展的。

    但相应的软件技术,也就是芯片架构发展很快,好歹让计算机芯片没有出现那种无法迭代的状况，可这终究无法改变硬件上的限制，从03年左右开始，计算机芯片的发展基本上就陷入了极为缓慢的状态。

    就拿英特尔来说，虽然他们每年都会发布最